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Tetrafluormethan – CF4 – Qualität & Service – Messer - Specialty Gases

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Tetrafluormethan - Banner

TETRAFLUORMETHAN CF4

Produkte und Anwendungen von Tetrafluormethan

Verschachtelte Anwendungen

Tetrafluoromethane - Part 1

Tetrafluormethan

Tetrafluormethan (CF4, auch bekannt als Tetrafluorkohlenstoff) ist ein farb- und geruchloses Gas, das weder brennbar noch giftig ist. Der Siedepunkt von CF4 liegt bei -127,8 °C (145,3 K) und seine Dichte beträgt 3,688 kg/m³ bei 15 °C / 1000 mbar. Während sowohl die Formel als auch der Name auf eine tetragonale Molekülgeometrie hindeuten, spiegelt insbesondere die Lewis-Struktur von CF4 seine Ähnlichkeit mit Methan wider: Ersetzt man die vier Wasserstoffatome, die an das zentrale Kohlenstoffatom gebunden sind, durch Fluor, entsteht die einfachste vollständig substituierte Fluor-Kohlenstoffverbindung – Tetrafluormethan.

Tetrafluoromethane - Part 2

INDUSTRIELLE HERSTELLUNG VON TETRAFLUORMETHAN

Da es keine bekannten natürlichen Quellen für Tetrafluormethan gibt, muss CF4 durch chemische Prozesse synthetisiert werden. Da die Kohlenstoff-Fluor-Bindung zu den stärksten Einfachbindungen zählt, führt jede Verbrennung einer Kohlenstoffverbindung in einer Fluorumgebung zur Bildung von Tetrafluormethan. Da andererseits die direkte Fluorierung von kohlenstoffhaltigen Ausgangsstoffen weder einfach zu handhaben noch wirtschaftlich umzusetzen ist, wird die Reaktion von Dichlordifluormethan mit Fluorwasserstoff zur Herstellung von CF4 im industriellen Maßstab genutzt.

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Hochreines Tetrafluormethan

Zusammensetzung
CF4 ≥ 99.999 %
Verunreinigungen
N2 ≤ 5 ppmv
O2 ≤ 2 ppmv
CO ≤ 1 ppmv
CO2 ≤ 1 ppmv
THC ≤ 1 ppmv
SF6 ≤ 1 ppmv
H2O ≤ 1 ppmv
TFC ≤ 1 ppmv
HF ≤ 0.1 ppmv

Tetrafluoromethane - Part 3

ANWENDUNGEN VON TETRAFLUORMETHAN

Die größte Anwendung für Tetrafluormethan in der Halbleiterindustrie ist die CF4-Plasmabehandlung in zweierlei Hinsicht: Plasmaätzen von Wafern und Plasmareinigung von Vakuumkammern. Dabei werden insbesondere die Möglichkeiten eines effizienten Ätzprozesses aufgrund des hohen Fluor-Kohlenstoff-Verhältnisses (4:1) ausgenutzt. Analog zum Ätzen ist Tetrafluormethan ebenso effektiv bei der Reinigung von Vakuumkammern mithilfe eines Plasmas. Nachfolgend finden Sie die gängigsten Beispiele für eine solche Plasmabehandlung mit CF4:

Verschachtelte Anwendungen

Tetrafluormethan - Etching

CF4 Plasmaätzen

Hochreines Tetrafluormethan eignet sich ausgezeichnet zum Ätzen einer Vielzahl von Materialien auf Siliziumbasis wie Si, SiO2 und Si3N4, entweder durch ein reines CF4-Plasma oder in Kombination mit Sauerstoff.

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Tetrafluormethan - Cleaning

CF4 Plasmareinigung

Eine verunreinigte Vakuumprozesskammer kann aufgrund des hohen Fluor-Kohlenstoff-Verhältnisses (4:1) durch eine CF4-Plasmabehandlung effizient gereinigt werden.

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